4001 |
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電気めっき |
electroplated coatings, electroplating |
金属又は非金属表面に金属を電気化学的に析出させた被膜。 |
4002 |
防食めっき |
electroplating for corrosion prevention |
製品に耐食性を付与するために行うめっき。 |
4003 |
装飾めっき |
decorative plating |
製品に美観を付与するために行うめっき。 |
4004 |
機能めっき |
plating for functional use |
めっき皮膜そのものの特性を利用するために行うめっき。 |
4005 |
複合めっき |
composite coatings, composite plating |
繊維状、粒子状などの分散相をもつ複合材料の電気めっき。 |
4006 |
合金めっき |
alloy platings, electroplated coatings of alloy |
2種類又はそれ以上の金属及び金属と非金属の合金の電気めっき。 |
4007 |
多層めっき |
multilayer deposits |
2層又はそれ以上の金属を析出した電気めっき。 |
4008 |
銅めっき |
copper plating |
銅イオン又は銅錯イオンを含む電解質に直流若しくはパルス電流を流して、陰極上に金属銅を析出させる処理。 |
4009 |
黄銅めっき |
brass plating |
銅イオン、亜鉛イオン又はそれらの錯イオンを含む電解質に直流又はパルス電流を流して、陰極上に銅と亜鉛の合金を析出させる処理。
参考 |
4010 |
ニッケルめっき |
nickel plating |
ニッケルイオンを含む電解質に直流又はパルス電流を流して、陰極上に金属ニッケルを析出させる処理。 |
4011 |
亜鉛めっき |
zinc plating |
亜鉛イオンや亜鉛錯イオンを含む電解質に直流又はパルス電流を流して、陰極上に金属亜鉛を析出させる処理。 |
4012 |
亜鉛合金めっき |
zinc alloy platig |
亜鉛めっき液に、他の金属イオン又は錯イオンを添加して通電し、陰極上に亜鉛と添加金属の合金を析出させる処理。 |
4013 |
すずめっき |
tin plating |
すずイオンやすず錯イオンを含む電解質に直流又はパルス電流を流して、陰極上に金属すずを析出させる処理。 |
4014 |
すず合金めっき |
tin alloy plating |
すずめっき液に、他の金属イオン又は錯イオンを添加して通電し、陰極上にすずと添加金属を析出させる処理。 |
4015 |
金めっき |
gold plating |
金イオンや金錯イオンを含む電解質に直流又はパルス電流を流して、陰極上に金属金を析出させる処理。
参考 |
4016 |
金合金めっき |
gold alloy plating |
金めっき液に他の金属イオンを添加して通電し、陰極上に金属金と添加金属を析出させる処理。
参考 |
4017 |
銀めっき |
silver plating |
銀イオンや銀錯イオンを含む電解質に直流又はパルス電流を流して、陰極上に金属銀を析出させる処理。 |
4018 |
装飾用クロムめっき |
decorative chromium plating |
製品の美観のために仕上げめっきとして行われるクロムめっき。 |
4019 |
工業用クロムめっき, 硬質クロムめっき |
electroplated coatings of chromium for engineering purpose, industrial chromium plating, hard chromium electroplating |
主として耐摩耗性を付与する目的で施した比較的厚いクロムめっき。 |
4020 |
マイクロポーラスクロムめっき |
microporous chromium plating |
微細な穴が均一に分布したクロムめっき。 |
4021 |
マイクロクラッククロムめっき |
microcracked chromium plating |
微細な割れが均一に分布されるように施すクロムめっき。 |
4022 |
ポーラスクロムめっき |
porous chromium plating |
あらかじめ表面を粗にしてクロムめっきをするか、又はめっき後その表面をエッチングによって多孔性とし、油の保持性を与えるクロムめっき。 |
4023 |
微小不連続 |
microdiscontinuity |
微細な割れ又は微小なあな(孔)。 |
4024 |
多孔率 |
porosity rate |
ポーラスクロムめっき面の任意の面積内において、割れ又はあな(孔)の占める面積の割合を百分率で表したもの。 |
4025 |
静止めっき法 |
rack plating, vat plating, (USA, still plating) |
品物を個々に陰極に取り付けてめっきする方法。 |
4026 |
バレルめっき法 |
barrel (electro) plating |
回転容器中で行う電気めっき法。 |
4027 |
ワンラック方式 |
one-rack system |
樹脂上にめっきをするとき、前処理とめっき工程間で引っかけを変えない方式。 |
4028 |
変調電流めっき法 |
modulated current plating, interrupted electroplating |
陰極電流密度を周期的に変えて行うめっき方法。
参考 |
4029 |
断続めっき法 |
interrupted electroplating |
直流電流を周期的に中断させたり減少させて行うめっき方法。 |
4030 |
パルスめっき法 |
pulse plating |
パルス波形の電流を用いて行うめっき方法。 |
4031 |
重畳電流めっき法, 重畳めっき法 |
superimposed current electroplating, (UK, surge plating), (USA, ripple plating) |
直流電流にサージ、リプル、パルス、交流などの脈流を重畳させ、周期的に電流を調整しながら行うめっき方法。 |
4032 |
PRめっき, PR法 |
periodic reverse electroplating, periodic reverse current plating |
電流の方向を周期的に変えて行うめっき方法。 |
4033 |
ストライクめっき, ストライク |
strike, strike plating |
a)後工程で行われる皮膜の析出を促進するための電着金属の薄膜。 b)この膜を得るために特に調整された溶液。 c)薄膜a)を得るために、異なる組成の浴か、又は後の過程とは異なる作業条件で比較的短時間に行うめっき。 |
4034 |
フラッシュめっき, フラッシュ |
flash, flash plating |
極めて短時間に行う薄いめっき方法。
参考 |
4035 |
二層ニッケルめっき法 |
duplex nickel plating |
第1層に硫黄を含まない無光沢又は半光沢のニッケルめっきを施し、その上に硫黄を含む光沢のニッケルめっきを施すめっき方法。 |
4036 |
肉盛りめっき法 |
salvage plating, electro sizing |
寸法不足を補うことを目的として施すめっき方法。 |
4037 |
下地めっき |
undercoat |
多層めっきの下地となるめっき皮膜。 |
4038 |
建浴 |
initial make-up of electrolytic bath |
電解槽内にめっき浴その他の処理液を作り、電解できるように準備する作業。 |
4039 |
浴管理 |
control of bath |
電解浴の状態を正常に維持するために行う管理。
参考 |
4040 |
脱塩 |
demineralization |
a)イオン交換などによって、溶存する塩類を取り除くこと。 参考 米国及び英国で一般的に使用されている。 b)脱イオンと同義語。 参考 欧州大陸で一般的に使用されている。 |
4041 |
脱イオン |
deionization |
イオン交換などによって溶液からイオンを除く操作。 |
4042 |
水の軟化 |
softening of water |
イオン交換などによって、水の硬度を下げる操作。 |
4043 |
活性炭処理 |
activated carbon treatment |
めっき浴中の有機不純物を吸着除去するために活性炭を用いる処理。 |
4044 |
空電解処理 |
preplating treatment, electrolytic purification, work-out, dummy plating |
めっき浴の調整を目的とした電解処理。 |
4045 |
迷走電流 |
stray current |
a)漏えい電流。 b)電解液、めっき液以外の伝熱管、槽壁などを通って被めっき物に達する電流。 |
4046 |
浴電圧 |
bath voltage |
めっき浴中の陰極と陽極との間の電圧。 |
4047 |
槽電圧 |
tank voltage |
電解中、めっき浴又は電解セルの陽極、陰極間で測定される電圧。 |
4048 |
陽極スライム |
anode slime |
金属を陽極にして電解したとき、電気化学的に溶解しない残さ(渣)。 |
4049 |
全シアン, トータルシアン |
total cyanide |
めっき浴中の金属と錯塩とを作っているシアンイオンと遊離状態のシアンとの総量。 |
4050 |
遊離シアン, フリーシアン |
free cyanide |
めっき浴中の金属分をシアン錯塩にするの必要な量以上のシアン。 |
4051 |
持ち込み |
drag-in |
槽外の液が被めっき物その他に付着して持ち込まれる現象。 |
4052 |
すくい出し |
drag-out |
槽内の液が被めっき物その他に付着して持ち出される現象。 |
4053 |
ガス発生 |
gassing |
電解中に、電極から目に見えるガスの発生。 |
4054 |
めっきはがし |
strip |
a)素地又は下地から皮膜を除去するのに用いる方法若しくは溶液。 b)素地又は下地から皮膜を除去する処理。 |
4055 |
筆めっき |
brush (electro) plating, tampon plating |
めっき液を筆やスポンジなどに吸収させて陽極とし、陰極にした品物の表面をこすってめっきする方法。 |
4056 |
マンドレル, 鋳型, 金型 |
mandrel, matrix, mould, (USA, mold) |
a)電鋳でカソードに用いられる型。 b)巻付け試験(マンドレル試験ともいう。)で使われる支え。 |